双通AAO纳米模板的制备问题
制备AAO模板的大致过程是在高纯铝基板上采用电化学阳极氧化,便得到铝基型单通AAO纳米模板。那么据我了解制备双通AAO纳米模板有两种方法,一种是电化学剥离,即利用阳极鼓泡,将AAO膜与铝基底分开,这样的方法简单易行,但是缺点是背面的孔大小不是很均匀,且孔径显得比较小。第二种方法也很常用,即化学腐蚀法,使用饱和氯化铜溶液利用置换原理,将铝基底反应掉,但是问题来了,在这个过程,很容易使AAO模板污染,表面有些脏东西残留,而这一问题不是一直都存在,却很难每次都避免。请问大家做过AAO的同仁们,你们是否遇到过这样的问题,又是如何解决的呢?图片附在下面。
去铝制备双通AAO表面污染情况.jpg 返回小木虫查看更多
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同,我也遇到这样的问题。 AAO,
铝基底一般都是有置换
话说你是怎么除去AL基底的。因为方法都一样,实验装置不一样
我直接用饱和氯化铜去铝基底的,但是有时就是有脏东西,但大部分是没有的,头疼,所有工艺一样的
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