磁控溅射射频怎么控制薄膜厚度,除了时间以外的其他参数,我希望薄膜能薄一点,怎么办? 返回小木虫查看更多
加我扣: 591945765, 交流一些关于镀膜的问题
除了时间,靶材到基底的距离,温度,工作气压,功率都可以起到控制作用的,可以找一些文献参考一下调整参数
磁控溅射可调参数很多,楼上说的调节样品台位置我觉得不太合适 因为可能出了溅射的均匀区(根据你的设备定),增大气压确实可以改变膜厚,因为气压大反溅射严重,会出现膜厚变薄,不过这得自己尝试,
加我扣: 591945765, 交流一些关于镀膜的问题
除了时间,靶材到基底的距离,温度,工作气压,功率都可以起到控制作用的,可以找一些文献参考一下调整参数
磁控溅射可调参数很多,楼上说的调节样品台位置我觉得不太合适 因为可能出了溅射的均匀区(根据你的设备定),增大气压确实可以改变膜厚,因为气压大反溅射严重,会出现膜厚变薄,不过这得自己尝试,