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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 磁控反应溅射Mg/Zn靶材辉光不稳定问题。
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张陈陈张

铜虫 (小有名气)

[求助] 磁控反应溅射Mg/Zn靶材辉光不稳定问题。 已有1人参与

磁控溅射实验中，采用的是氩气和氧气混合进行溅射金属靶材Zn,Mg,用来生长ZnMgO合金薄膜。发现在单个金属靶材溅射时候，发现辉光稳定，但是一旦共溅射之后，两个金属靶材辉光都变得不稳定。在5.0Pa(电阻档下真空计读数）。以前在这个压强下是可以正常进行的。当我减小压强，氩气和氧气流量不变情况，共溅射辉光就变稳定。这写可能得原因是什么？
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1楼 2014-04-22 17:39:59
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yanglei839

金虫 (正式写手)

木虫

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
也可能是两个磁场相互作用导致的不稳定，可以在靶上套上铁皮套试试
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hopeisagoodthing........
2楼2014-04-23 18:50:19
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张陈陈张

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yanglei839 at 2014-04-23 18:50:19
也可能是两个磁场相互作用导致的不稳定，可以在靶上套上铁皮套试试

你是说阳极屏蔽罩没有屏蔽作用了？可我有换过一个阳极屏蔽罩啊~~
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3楼2014-04-24 08:56:27
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yanglei839

金虫 (正式写手)

木虫

【答案】应助回帖

你用的是直流还是射频？
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hopeisagoodthing........
4楼2014-04-24 20:11:56
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风舞灵动

铜虫 (小有名气)
屏蔽罩与下面金属间留的空隙足够吗？匹配器接头是否正确？溅射仪接头和功率是否正常呢？
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5楼2014-04-24 23:51:06
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张陈陈张

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by yanglei839 at 2014-04-24 20:11:56
你用的是直流还是射频？

射频~~我在想，有没有可能是两个靶材底座位置的不恰当，导致他们相互之间存在磁场什么的叠加，引起这种射频干扰问题？
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6楼2014-04-26 11:51:19
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张陈陈张

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yanglei839 at 2014-04-23 18:50:19
也可能是两个磁场相互作用导致的不稳定，可以在靶上套上铁皮套试试

对了~~想问下，两个靶材底座的安装位置，比如说高度、相对角度会引起他们之间磁场的相、相互作用么？
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7楼2014-04-26 11:54:34
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知夏爱夏天

金虫 (小有名气)
请问Mg靶可以用来溅射Mg膜吗，你

发自小木虫IOS客户端
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8楼2018-09-21 19:15:09
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