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张陈陈张

铜虫 (小有名气)

[求助] 磁控反应溅射Mg/Zn靶材辉光不稳定问题。 已有1人参与

磁控溅射实验中,采用的是氩气和氧气混合进行溅射金属靶材Zn,Mg,用来生长ZnMgO合金薄膜。发现在单个金属靶材溅射时候,发现辉光稳定,但是一旦共溅射之后,两个金属靶材辉光都变得不稳定。在5.0Pa(电阻档下真空计读数)。以前在这个压强下是可以正常进行的。当我减小压强,氩气和氧气流量不变情况,共溅射辉光就变稳定。这写可能得原因是什么?
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张陈陈张

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by yanglei839 at 2014-04-24 20:11:56
你用的是直流还是射频?

射频~~我在想,有没有可能是两个靶材底座位置的不恰当,导致他们相互之间存在磁场什么的叠加,引起这种射频干扰问题?
6楼2014-04-26 11:51:19
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yanglei839

金虫 (正式写手)

木虫

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
也可能是两个磁场相互作用导致的不稳定,可以在靶上套上铁皮套试试
hopeisagoodthing........
2楼2014-04-23 18:50:19
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张陈陈张

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yanglei839 at 2014-04-23 18:50:19
也可能是两个磁场相互作用导致的不稳定,可以在靶上套上铁皮套试试

你是说阳极屏蔽罩没有屏蔽作用了?可我有换过一个阳极屏蔽罩啊~~
3楼2014-04-24 08:56:27
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yanglei839

金虫 (正式写手)

木虫

【答案】应助回帖

你用的是直流还是射频?
hopeisagoodthing........
4楼2014-04-24 20:11:56
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