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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 磁控反应溅射Mg/Zn靶材辉光不稳定问题。
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张陈陈张

铜虫 (小有名气)

[求助] 磁控反应溅射Mg/Zn靶材辉光不稳定问题。已有1人参与

磁控溅射实验中，采用的是氩气和氧气混合进行溅射金属靶材Zn,Mg,用来生长ZnMgO合金薄膜。发现在单个金属靶材溅射时候，发现辉光稳定，但是一旦共溅射之后，两个金属靶材辉光都变得不稳定。在5.0Pa(电阻档下真空计读数）。以前在这个压强下是可以正常进行的。当我减小压强，氩气和氧气流量不变情况，共溅射辉光就变稳定。这写可能得原因是什么？
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1楼2014-04-22 17:39:59
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yanglei839

金虫 (正式写手)

木虫

【答案】应助回帖

你用的是直流还是射频？
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hopeisagoodthing........
4楼2014-04-24 20:11:56
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yanglei839

金虫 (正式写手)

木虫

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
也可能是两个磁场相互作用导致的不稳定，可以在靶上套上铁皮套试试
赞一下 回复此楼
hopeisagoodthing........
2楼2014-04-23 18:50:19
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张陈陈张

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yanglei839 at 2014-04-23 18:50:19
也可能是两个磁场相互作用导致的不稳定，可以在靶上套上铁皮套试试

你是说阳极屏蔽罩没有屏蔽作用了？可我有换过一个阳极屏蔽罩啊~~
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3楼2014-04-24 08:56:27
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风舞灵动

铜虫 (小有名气)
屏蔽罩与下面金属间留的空隙足够吗？匹配器接头是否正确？溅射仪接头和功率是否正常呢？
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5楼2014-04-24 23:51:06
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