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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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zhioking

木虫 (小有名气)

[交流] 【求助】磁控溅射靶材的磁性强弱对溅射的影响 已有3人参与

以前我们的溅射台最低流量大概是6sccm左右 今天我做实验时发现1-2sccm都可以做 不知道是分子泵老化了 还是说我用的强磁性靶材的原因 知情者请赐教啊!
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ddx-k

荣誉版主 (著名写手)

骑士II

★ ★
小木虫:)(金币+2):3q 2010-06-07 23:33:31
你这个问法?气流量管分子泵什么事?气流量是由流量计控制的。
2楼2010-06-07 17:15:20
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zhope

铜虫 (初入文坛)

靶材的饱和磁化强度越高,起辉就越困难。在你的情形中,应该不是这个问题。流量计控制的是溅射气压,你检查溅射气压是否变化,或真空计是否需要校正?
3楼2010-06-08 09:05:19
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nzhth

至尊木虫 (文坛精英)

能否溅射主要看气压的变化,如果气压也变化了,那就是因为磁场变强引起,如果气压没有变化,流量的影响很小,在气压不变情况下,流量越小其实越容易溅射。
4楼2010-06-08 12:24:37
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