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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 基础研究 » 【求助】磁控溅射靶材的磁性强弱对溅射的影响
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zhioking

木虫 (小有名气)

[交流] 【求助】磁控溅射靶材的磁性强弱对溅射的影响 已有3人参与

以前我们的溅射台最低流量大概是6sccm左右 今天我做实验时发现1-2sccm都可以做 不知道是分子泵老化了 还是说我用的强磁性靶材的原因 知情者请赐教啊！
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1楼 2010-06-07 12:06:17
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ddx-k

荣誉版主 (著名写手)

骑士II
★ ★
小木虫:)(金币+2):3q 2010-06-07 23:33:31
你这个问法？气流量管分子泵什么事？气流量是由流量计控制的。
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2楼2010-06-07 17:15:20
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zhope

铜虫 (初入文坛)
靶材的饱和磁化强度越高，起辉就越困难。在你的情形中，应该不是这个问题。流量计控制的是溅射气压，你检查溅射气压是否变化，或真空计是否需要校正？
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3楼2010-06-08 09:05:19
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nzhth

至尊木虫 (文坛精英)
能否溅射主要看气压的变化，如果气压也变化了，那就是因为磁场变强引起，如果气压没有变化，流量的影响很小，在气压不变情况下，流量越小其实越容易溅射。
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4楼2010-06-08 12:24:37
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