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磁控反应溅射Mg/Zn靶材辉光不稳定问题。 已有1人参与
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| 磁控溅射实验中，采用的是氩气和氧气混合进行溅射金属靶材Zn,Mg,用来生长ZnMgO合金薄膜。发现在单个金属靶材溅射时候，发现辉光稳定，但是一旦共溅射之后，两个金属靶材辉光都变得不稳定。在5.0Pa(电阻档下真空计读数）。以前在这个压强下是可以正常进行的。当我减小压强，氩气和氧气流量不变情况，共溅射辉光就变稳定。这写可能得原因是什么？ |
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 磁控溅射靶材资料大全 | PVD镀膜类技术资料 |
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yanglei839
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