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shucaijing

铜虫 (正式写手)

[求助] 如何在硅片上长300nm的Si02层

如何在硅片上长300nm的Si02层?我们组有真空镀膜机 但需要很高的温度 且时间长 我用其他的什么方法可以得到那?
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Comeon,Baby!!!
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dwysd

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2012-08-25 08:43:58
shucaijing: 金币+3, ★★★很有帮助, 谢谢你的建议 2012-08-29 09:07:48
一般而言,如果用单质Si作为溅射靶材,Ar/O2作为溅射气体/反应气体,用一般的磁控溅射方法就可以制备SiO2薄膜,沉积速率视靶材大小和溅射功率的大小而定,但只制备300nm厚的SiO2薄膜,不会要太长时间。我曾经用该方法制备过微米级的SiO2薄膜,也就是几个小时而已。
2楼2012-08-24 19:56:13
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bazhuayuyu

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
shucaijing: 金币+1, 有帮助, 谢谢你的建议 2012-08-29 09:08:22
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2012-09-02 09:07:00
你的真空镀膜机指的是溅射吗?除了热氧化,长SiO2最常用的还是射频反应溅射和PECVD,这两种温度都不高
3楼2012-08-25 17:14:08
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dzcl11

铜虫 (小有名气)


【答案】应助回帖


蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2012-09-02 09:07:14
硅片上生长二氧化硅一般有两种方法:PECVD和热氧化法
4楼2012-09-01 14:37:08
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mosleo

捐助贵宾 (小有名气)


【答案】应助回帖

一般用热氧化法生长,不主张用溅射方法生长氧化硅层,会有非化学计量产物。
5楼2012-09-02 01:25:02
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carlos486

至尊木虫 (著名写手)

大虫

你好,看了你的帖子,请问你实验室用的是什么真空镀膜机,因为我实验室也想买一台在玻璃上镀钛,像电镜喷金那样大小的设备,我想通过你了解一下,打扰了。
积极向上,清醒理智,避虚就实
6楼2012-11-05 11:21:05
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infobright

铜虫 (初入文坛)

本帖内容被屏蔽

7楼2012-12-25 13:58:39
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xpengpengx

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by dwysd at 2012-08-24 19:56:13
一般而言,如果用单质Si作为溅射靶材,Ar/O2作为溅射气体/反应气体,用一般的磁控溅射方法就可以制备SiO2薄膜,沉积速率视靶材大小和溅射功率的大小而定,但只制备300nm厚的SiO2薄膜,不会要太长时间。我曾经用该方 ...

你好,SiO2用溅射的方法好做吗?我之前做过SiO2射频溅射,辉光放电正常,但是不能成膜   能说说射频溅射SiO2时可能的原因吗?
欢迎MO-TFT的虫友一起交流
8楼2012-12-25 16:07:16
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dwysd

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
8楼: Originally posted by xpengpengx at 2012-12-25 16:07:16
你好,SiO2用溅射的方法好做吗?我之前做过SiO2射频溅射,辉光放电正常,但是不能成膜   能说说射频溅射SiO2时可能的原因吗?...

我的SiO2是用溅射法制备的,如上所述。但是看过其他人的回复,我觉得我要强调一下,我制备的是非晶的SiOx薄膜,Si/O化学计量比会略偏离1/2。如果你要做的事晶态纯SiO2(石英),那我所说的内容没有任何意义。我做的非晶SiO2薄膜只是作为绝缘层应用而已,对晶体结构、光学性质等没有任何要求。
9楼2012-12-26 12:04:56
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xpengpengx

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
9楼: Originally posted by dwysd at 2012-12-26 12:04:56
我的SiO2是用溅射法制备的,如上所述。但是看过其他人的回复,我觉得我要强调一下,我制备的是非晶的SiOx薄膜,Si/O化学计量比会略偏离1/2。如果你要做的事晶态纯SiO2(石英),那我所说的内容没有任何意义。我做的非 ...

我主要也是要求它的介电性能,化学计量比偏离1/2也没关系。你是用反应溅射法制备的SiO2薄膜,我们这边有Si靶,也有SiO2靶,不过我想直接用SiO2靶做,之前试过,如上面所述,辉光放电正常,就是没有膜。注: 我是用射频溅射的。    不知道问题在哪?能否指导指导?
欢迎MO-TFT的虫友一起交流
10楼2012-12-26 16:09:36
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