【答案】应助回帖
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感谢参与，应助指数 +1
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2012-08-25 08:43:58
shucaijing: 金币+3, ★★★很有帮助, 谢谢你的建议 2012-08-29 09:07:48
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一般而言，如果用单质Si作为溅射靶材，Ar/O2作为溅射气体/反应气体，用一般的磁控溅射方法就可以制备SiO2薄膜，沉积速率视靶材大小和溅射功率的大小而定，但只制备300nm厚的SiO2薄膜，不会要太长时间。我曾经用该方法制备过微米级的SiO2薄膜，也就是几个小时而已。 |
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