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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 射频磁控溅射镀大面积薄膜在参数上需要有何改进
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fufu0808

银虫 (小有名气)

[求助] 射频磁控溅射镀大面积薄膜在参数上需要有何改进已有2人参与

求助：在大面积衬底，用射频磁控溅射法镀氧化物膜，关于膜均匀性问题，师兄师姐们有什么想法
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1楼2014-03-08 21:10:42
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fufu0808

银虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by 尘隐土 at 2014-03-10 14:55:47
只要你们样品台放得下，不用改变任何参数，不然你可以试着溅射一次再测各方面参数...

嗯哪，目前只能先这么试试
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7楼2014-03-10 14:59:13
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尘隐土

木虫 (正式写手)

贫困区

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 欢迎积极交流 2014-03-10 08:32:43
fufu0808: 金币+2, ★有帮助 2014-03-11 21:26:56
主要看靶座和靶材的尺寸,要是设计够的话,不用改变参数
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2楼2014-03-09 19:52:34
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maya5428

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
fufu0808: 金币+2, ★有帮助 2014-03-11 21:27:08
让衬底按照一定的旋转速度进行旋转。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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3楼2014-03-10 09:29:27
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fufu0808

银虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by maya5428 at 2014-03-10 09:29:27
让衬底按照一定的旋转速度进行旋转。

基片可以转动，转速有什么要求
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4楼2014-03-10 14:48:53
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