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fufu0808

银虫 (小有名气)

[求助] 射频磁控溅射镀大面积薄膜在参数上需要有何改进 已有2人参与

求助:在大面积衬底,用射频磁控溅射法镀氧化物膜,关于膜均匀性问题,师兄师姐们有什么想法
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fufu0808

银虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by maya5428 at 2014-03-10 09:29:27
让衬底按照一定的旋转速度进行旋转。

基片可以转动,转速有什么要求
4楼2014-03-10 14:48:53
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尘隐土

木虫 (正式写手)

贫困区

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
chemlh: 欢迎积极交流 2014-03-10 08:32:43
fufu0808: 金币+2, 有帮助 2014-03-11 21:26:56
主要看靶座和靶材的尺寸,要是设计够的话,不用改变参数
2楼2014-03-09 19:52:34
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maya5428

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
fufu0808: 金币+2, 有帮助 2014-03-11 21:27:08
让衬底按照一定的旋转速度进行旋转。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
3楼2014-03-10 09:29:27
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fufu0808

银虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 尘隐土 at 2014-03-09 19:52:34
主要看靶座和靶材的尺寸,要是设计够的话,不用改变参数

目前靶材可以前后动,上下动,但只能手动,而且量化困难。。。靶材大致与衬底一样大,甚至会小。。。怎么破。。。
5楼2014-03-10 14:52:25
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