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磁控溅射镀的ZTO薄膜不导电
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| 我用的是射频磁控溅射，在硅片上溅射ZTO膜，溅射功率是100W，工作压强是2pa，氩气流量是15，室温，溅射时间为6分钟。靶材的成分SnO2质量分数为65%，ZnO质量分数为35%，结果溅射的膜不导电。请各位有经验的同胞们，给出各种原因和解释。 |
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