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磁控溅射镀的ZTO薄膜不导电
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| 我用的是射频磁控溅射,在硅片上溅射ZTO膜,溅射功率是100W,工作压强是2pa,氩气流量是15,室温,溅射时间为6分钟。靶材的成分SnO2质量分数为65%,ZnO质量分数为35%,结果溅射的膜不导电。请各位有经验的同胞们,给出各种原因和解释。 |
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5楼2013-03-02 09:26:24
钦点木瓜
金虫 (著名写手)
- 应助: 104 (高中生)
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- 散金: 1690
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- 专业: 无机非金属类光电信息与功

2楼2013-03-01 16:33:29
3楼2013-03-01 16:43:08
4楼2013-03-02 09:24:54










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