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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 磁控溅射靶中毒
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liaofang20

银虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射靶中毒

各位大侠：
       能否替我解答中频磁控溅射孪生靶其中一个靶中毒，另外一个正常的现象。靶材是圆柱金属靶。使靶中毒的原因有哪些？
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1楼2013-06-28 10:25:44
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dearhanzi

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
fbqrdzs: 金币+3, 有帮助。 2013-06-29 13:16:16
liaofang20: 金币+5, ★★★很有帮助 2013-07-01 08:08:46
就目前工作经验来讲，气体分布的影响可能性更大。
不过我建议你做一些测试：
（1） 把两个靶材换个位置，如果还是同一个靶中毒，可以排除靶座，冷却水等的影响。
（2）气体分布这个说实话不大容易改动，毕竟是机器本身设计的问题。这个建议自己多根据设备想办法
（3） 如果气体分布均匀，但是还是同一个靶 中毒，有可能就是靶材本身的问题了。
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2楼2013-06-28 15:41:14
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ll2013

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
liaofang20: 金币+10, ★★★很有帮助 2013-07-09 10:46:02
靶材表面有氧化物未清理，加长预溅射时间。
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3楼2013-07-09 10:38:30
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