应《网络安全法》要求，自2017年10月1日起，未进行实名认证将不得使用互联网跟帖服务。为保障您的帐号能够正常使用，请尽快对帐号进行手机号验证，感谢您的理解与支持！

24小时热门版块排行榜    

小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 请教一个磁控溅射制备薄膜的问题，用相同功率的直流和射频溅射金属靶效果有什么不同？
51/1返回列表
查看: 3521  |  回复: 13
只看楼主 @他人 存档 新回复提醒 (忽略) 收藏    在APP中查看
当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖

HHBWF

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽

» 收录本帖的淘帖专辑推荐

PVD镀膜类技术资料

» 猜你喜欢

» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
1楼 2013-04-18 09:43:35
已阅   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

HHBWF

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
3楼2013-04-18 10:21:39
已阅   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 14 个回答

wbcui

至尊木虫 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
用射频的话，沉积速率会较低
而且，两者溅出来的包膜的成分会有差别
赞一下 回复此楼
2楼2013-04-18 10:16:02
已阅   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

wbcui

至尊木虫 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by HHBWF at 2013-04-18 11:21:39
请问一下 我所用的就是单质的金属靶材 这样溅射出来的成分也有差别吗？...

要是合金把的话，有区别

单质靶没大差别吧

你的好像是反应溅射？
应该差别不大
赞一下 回复此楼
4楼2013-04-18 10:44:49
已阅   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

HHBWF

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
5楼2013-04-18 10:57:46
已阅   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 14 个回答
信息提示
关闭
请填处理意见
关闭