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悠悠青草

新虫 (初入文坛)

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[求助] 磁控溅射主室的直流和射频能自己控制吗

各位大侠们，你们好，小妹现在遇到大问题。我主要从事薄膜晶体管的研究，我刚买的靶材，是三个陶瓷靶需要同时溅射制备薄膜。由于陶瓷靶材不导电，需要用射频，而不是直流。但是，磁控溅射主室中只有一个射频，而有两个直流，所以实验进行不下去。在这想请问大侠们，沈科仪的磁控溅射主室的射频，直流能否自行调节，设置，比如都调节成射频。如果能够帮我解决此问题，将不甚感激。

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源寻得志同道合之友共同进步

1楼 2013-02-27 16:49:41

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悠悠青草

新虫 (初入文坛)

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引用回帖:

2楼: Originally posted by lsx2121 at 2013-03-11 22:45:18
三个陶瓷靶，同时溅射确实需要三个小的RF 电源。沈科仪的设备做不到射频和直流自动调节。国外有射偏和直流电源自动切换开关，比如，你一个射频电源可以顺序给1号，2号，3号阴极供电源，一次只有一个工作，但不能 ...

嗯，嗨，看来是没办法了，谢谢您的回答~

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源寻得志同道合之友共同进步

3楼2013-03-14 15:27:22

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lsx2121

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本帖内容被屏蔽

2楼2013-03-11 22:45:18

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