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悠悠青草

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射主室的直流和射频能自己控制吗

各位大侠们,你们好,小妹现在遇到大问题。我主要从事薄膜晶体管的研究,我刚买的靶材,是三个陶瓷靶需要同时溅射制备薄膜。由于陶瓷靶材不导电,需要用射频,而不是直流。但是,磁控溅射主室中只有一个射频,而有两个直流,所以实验进行不下去。在这想请问大侠们,沈科仪的磁控溅射主室的射频,直流能否自行调节,设置,比如都调节成射频。如果能够帮我解决此问题,将不甚感激。
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lsx2121

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2楼2013-03-11 22:45:18
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悠悠青草

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by lsx2121 at 2013-03-11 22:45:18
三个陶瓷靶,同时溅射确实需要三个小的RF 电源。 沈科仪的设备做不到射频和直流自动调节。  国外有射偏和直流电源自动切换开关,比如, 你一个射频电源可以顺序给1号,2号,3号阴极供电源,一次只有一个工作,但不能 ...

嗯,嗨,看来是没办法了,谢谢您的回答~
源寻得志同道合之友共同进步
3楼2013-03-14 15:27:22
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