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星落如雨

木虫 (正式写手)

[求助] 溅射工作气压及功率对RF溅射的影响

请各位虫友指点一下，RF溅射制作薄膜时，溅射时工作气压（非起始真空度）对膜的生长速率和质量有何影响？溅射化合物时，化合物以原子的形式还是以分子的形式生长形成薄膜？溅射的功率对膜的生长速率和质量有何影响？高功率是否会对薄膜造成较大的物理损伤？请虫友推荐本这方面的书。
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1楼 2012-09-18 17:08:01
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