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磁控溅射与反应磁控溅射
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磁控溅射与反应磁控溅射
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有做磁控溅射或反应磁控溅射镀氧化铝薄膜的吗?怎么镀上去的呀?有什么关键控制吗?我怎么镀不上去呀
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1楼
2011-10-25 11:08:40
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5楼
:
Originally posted by
xjtu-sunhl
at 2011-10-25 16:33:07:
氧化物薄膜沉积速率比较低,是不是镀的时间太短啊。
可以镀时间长一些或者调溅射功率,试试看。
时间有的都达到四个多小时了,功率250W左右,也是镀不上去
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8楼
2011-10-25 19:43:58
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wbcui(金币+1): 鼓励一下,多谢参与! 2011-10-26 20:22:22
基底是什么呀?可能是膜基结合力的问题!
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Neverlosemybearings,justbemyself!
2楼
2011-10-25 14:25:58
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★
心在飘(金币+1): 真有那么容易我就不问了,氧气通的量已经很小了,但连铝都溅射不上,更别说是反应溅射氧化铝了 2011-10-25 15:45:18
wbcui(金币+1): 鼓励一下,多谢参与! 2011-10-26 20:22:06
Al 靶加Ar/O2混合气体溅射,很容易溅射沉积的。
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3楼
2011-10-25 14:56:09
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2楼
:
Originally posted by
大鲨鱼邓肯
at 2011-10-25 14:25:58:
基底是什么呀?可能是膜基结合力的问题!
基地用的玻璃,溅射得到的铜膜,还有铝膜,三种都试过,都溅射不上
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4楼
2011-10-25 15:46:31
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