带300nm厚氧化层的硅片(SiO2/Si)食人鱼溶液亲水处理后怎么保存?
如题,现有带300nm厚氧化层的硅片(SiO2/Si),利用食人鱼溶液(H2SO4:H2O2=7:3)90℃加热2h做亲水处理,后用超纯水清洗3次,想问一下这种亲水性处理后样品怎么保存呢?是浸泡在超纯水里,还是氮气吹干后放培养皿密封?这种处理方法表面有多少羟基,这些羟基是否稳定,怎么再去除呢?查了好久都没有查到相关的资料,有没有虫子做过这项调查?谢谢 返回小木虫查看更多
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如题,现有带300nm厚氧化层的硅片(SiO2/Si),利用食人鱼溶液(H2SO4:H2O2=7:3)90℃加热2h做亲水处理,后用超纯水清洗3次,想问一下这种亲水性处理后样品怎么保存呢?是浸泡在超纯水里,还是氮气吹干后放培养皿密封?这种处理方法表面有多少羟基,这些羟基是否稳定,怎么再去除呢?查了好久都没有查到相关的资料,有没有虫子做过这项调查?谢谢 返回小木虫查看更多
放超纯水中保存 但是有效期也不会太长 尽快使用
你好,请问有没有相关资料推荐?这些羟基再怎么去除
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加热或者过段时间自己就没了
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