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带300nm厚氧化层的硅片（SiO2/Si）食人鱼溶液亲水处理后怎么保存？
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| 如题，现有带300nm厚氧化层的硅片（SiO2/Si），利用食人鱼溶液（H2SO4:H2O2=7:3）90℃加热2h做亲水处理，后用超纯水清洗3次，想问一下这种亲水性处理后样品怎么保存呢？是浸泡在超纯水里，还是氮气吹干后放培养皿密封？这种处理方法表面有多少羟基，这些羟基是否稳定，怎么再去除呢？查了好久都没有查到相关的资料，有没有虫子做过这项调查？谢谢 |
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3楼2019-06-21 11:01:24
4楼2019-06-21 20:08:01
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tzynew5楼
2019-06-24 15:22
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shuxiao0811(金币+1): 谢谢参与
月下凤尾竹6楼
2019-06-24 15:38
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shuxiao0811(金币+1): 谢谢参与
， 发自小木虫IOS客户端
youngen7楼
2019-06-26 10:39
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shuxiao0811(金币+1): 谢谢参与
2019-06-27 08:02
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shuxiao0811(金币+1): 谢谢参与