磁控溅射镀膜一会儿起辉一会儿不起辉
用氧化镍靶材磁控溅射镀膜过程中起辉后很快就灭辉，然后关掉射频功率后重新开又可以起辉，但是一会儿又没了，这样反复，请求各位大神帮忙解答。
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用氧化镍靶材磁控溅射镀膜过程中起辉后很快就灭辉，然后关掉射频功率后重新开又可以起辉，但是一会儿又没了，这样反复，请求各位大神帮忙解答。
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京公网安备 11010802022153号
1.起辉的气压是否正确
2.靶材表面是否有氧化或者杂质在表面
3.起辉的电压电流稳定性
辉光不能维持，气压不够或者磁场不够，也可能匹配箱自动匹配不到位
2pa 确实已经很高了，一般1pa已经算高 的了。
排除 气压，那很可能就是磁场强度了，不知道你在沉积金属的时候电压高不高？更直接的当然是高斯计测水平分量。
辉光不能维持，你这种现象更像在溅射磁性材料
，
用射频靶时，要观察气体流量计，气压可能会突然下降，然后就起辉失败。
排查压强
1.磁场强度不够
2.靶材是铁磁性或者靶材过厚