负偏压能够吸引多少带电离子轰击基片,对薄膜生长形态影响大吗?论文上很多结果不太相信,想听听实际情况。 返回小木虫查看更多
有很大影响,可以影响核的形成速度的增长速度,可以对沉积粒子进行选择,可以提高涂层粒子饶射性等等诸多影响
影响大不大,你做一下对比就知道了。直流溅射做氮化钛,不加偏压和加了偏压。应力,硬度等参数,完全不一样。
我总觉得影响不大,不同批次和时间制备的薄膜,应力,硬度,微结构,都存在差别,主要是负偏压施加,增加了多少粒子,能否测一下 ,
说实话,你要同一批次测还行,不同批次肯定都不一样的
有很大影响,可以影响核的形成速度的增长速度,可以对沉积粒子进行选择,可以提高涂层粒子饶射性等等诸多影响
影响大不大,你做一下对比就知道了。直流溅射做氮化钛,不加偏压和加了偏压。应力,硬度等参数,完全不一样。
我总觉得影响不大,不同批次和时间制备的薄膜,应力,硬度,微结构,都存在差别,主要是负偏压施加,增加了多少粒子,能否测一下
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说实话,你要同一批次测还行,不同批次肯定都不一样的