直流磁控溅射ito不均匀靶材变色
采用直流溅射ito，溅射一段时间后，现在靶材表面有一道沟，且中心和边缘变色。溅射的直径100mm样片，从灯下看样片，中心区域发蓝，边缘区域发黄，因为没有台阶仪，没法测厚度差。。。请教大神，靶材表面出现沟是不是会影响均匀性，下面图是靶材颜色，请教是哪里除了问题
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磁控溅射都是这样的，先把设备原理弄懂吧
最正常的现象。靶上面的沟是磁场跑道，样品色差主要原因是膜厚不均匀。
靶材消耗产生轨道，正常情况下不会影响均匀性，除非刻蚀出现了深沟型。膜厚均匀性很大程度上跟阴极本身的设计相关，配合合理的靶基距。工艺对均匀性的影响相对较�
，
您好，看见您在做关于ITO的实验，我想请问一下，哪里能够找到相关技术人员给我的玻璃管子镀膜啊