关于光催化降解反应终止
目前做硫化钼复合结构的光催化降解罗丹明b的实验 但是发现降解速率随时间越来越慢 到120分钟几乎停止 想问问大家可能的原因 是
因为硫化钼的光腐蚀还是因为空穴电子分离差 最终导致电子或者空穴一方堆积 复合增强
那么该怎么解决这个问题呢 谢谢大家
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目前做硫化钼复合结构的光催化降解罗丹明b的实验 但是发现降解速率随时间越来越慢 到120分钟几乎停止 想问问大家可能的原因 是
因为硫化钼的光腐蚀还是因为空穴电子分离差 最终导致电子或者空穴一方堆积 复合增强
那么该怎么解决这个问题呢 谢谢大家
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求助!!!
光腐蚀可能性大吧,毕竟硫化物容易光腐蚀
也有可能是发生了聚合吧
硫化物特别容易被自身产生的空穴腐蚀而失活,要想办法减少空穴腐蚀,采用异质结转移空穴可以降低被腐蚀的速度,