有用过SU8负胶的吗？请教点操作上的问题。

以前其实自己在cleanroom里也做过不少光刻，最近在实验室搭了一套简易的做SU8负胶
的平台，包括近似平行光LED紫外光源、掩膜夹具、匀胶机、加热平台、通风橱、黄光
操作区等，但是操作中同学反映结果不稳定，主要有两个问题，我自己也不是特别确定
是什么问题，来本版请教一下，牛人请给指点，不胜感谢！
  
第一个问题，有时候develop时刻蚀不完全，这种情况对双层曝光的上层尤其常见，留
下白色的东西长期去不掉，developer里面多泡半小时都去不掉，这个可以出现在完全
没feature的部位，如图，请问这个是什么东西啊？可能什么原因产生的？有什么办法
避免？
  
第二个问题，有时候feature粘不牢，会掉下来，如图，这个有什么可能的原因？有什
么诀窍来改进？
  
我再加些背景信息。我们用的SU8是Microchem的套装，包括2000.x的几种胶，
developer，稀释剂，全部常温避光保存，定期分装出小份使用。室内湿度较高，有时
候达到68%，我们对这个比较疑虑，听说对操作不利，但是也不清楚究竟会产生那些后
果。硅片为大陆买的普通抛光8寸硅片，100晶向，切成小片用，使用前于浓硫酸内浸泡
数小时以上，再用纯水洗净甩干，150度烘干后使用。涂胶前不使用HMDS之类的
promoter处理，因为SU8的说明书就没说让用。前烘后烘等温度与时间依官方manual，
develop时候先用用过的developer，再用新的developer冲净。


问题1



问题2



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