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【求助】氧空位缺陷降低了功函数如何做出定性的解释

作者 bosezi
来源: 小木虫 700 14 举报帖子
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最近一个试验现象,发现氧空位缺陷降低了功函数,能否请教大家如何做出定性的解释。谢谢

[ Last edited by ddx-k on 2009-10-12 at 20:58 ] 返回小木虫查看更多

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  • 精华评论
  • ppjason

    建议看看热力学与统计物理,加上固体物理的相关内容应该能清楚

  • djt

    共同学习一下吧
    定性分析 按理说比较容易

  • bosezi

    引用回帖:
    Originally posted by ppjason at 2009-10-6 17:25:
    建议看看热力学与统计物理,加上固体物理的相关内容应该能清楚

    还忘多多指教阿

  • bosezi

    自己顶一下,还望大家帮忙啊

  • yzcluster

    我给你说一个简单的解释。
    功函数的定义是W=E0-Ef,其中,E0是真空能级,Ef是费米能级。如果W降低,很显然是Ef增大了,或者说,升高了。
    对于体系存在O原子,O原子(或O离子)在固体中形成的是离子键(当然也可能会有共价成分),但不管怎么说,都是把电子(包括O本身的电子和其他电负性比较低的原子电子)定域在O离子周围。当出现O空位,其所束缚的其他原子电子就被释放出来了。这个相当于在体系中掺入了N型施主杂志来释放电子。而体系电子多了,费米能级就会相应的上升,也就是升高了。换句话说,W减少了。

    以上是体相的情况。如果是表面,可能还有费米针扎效应等等,而且理论上的说法并不统一。表面问题很复杂,就不多说了,

  • bosezi

    引用回帖:
    Originally posted by yzcluster at 2009-10-7 10:48:
    我给你说一个简单的解释。
    功函数的定义是W=E0-Ef,其中,E0是真空能级,Ef是费米能级。如果W降低,很显然是Ef增大了,或者说,升高了。
    对于体系存在O原子,O原子(或O离子)在固体中形成的是离子键(当然也可 ...

    能否这样理解:n型半导体中O空位的缺陷使功函数减小(掺杂效应),那如果样品为p型,则会是功函数变大

    另外可否请yzcluster讲讲pinning effect. 这个应该不会影响功函吧?

  • yjyang07

    学习了  很好啊

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