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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 射频磁控溅射金属Mo，反射功率不稳定，往复跳动
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yangyueyf

银虫 (正式写手)

[求助] 射频磁控溅射金属Mo，反射功率不稳定，往复跳动 已有1人参与

射频磁控溅射金属Mo，反射功率不稳定，往复跳动，工作电流也同步往复跳动，电压基本稳定，肿么回事呢
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PVD ALD CVD
1楼 2015-07-09 14:51:27
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bengau

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
yangyueyf: 金币+30, ★★★很有帮助 2015-07-10 21:14:28
用砂纸打磨一下靶的表面试试？
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2楼2015-07-10 06:02:42
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yangyueyf

银虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by bengau at 2015-07-10 06:02:42
用砂纸打磨一下靶的表面试试？

我觉得你说的很有道理
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PVD ALD CVD
3楼2015-07-10 21:15:12
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yangyueyf

银虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by bengau at 2015-07-10 06:02:42
用砂纸打磨一下靶的表面试试？

但又不知道是什么道理
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PVD ALD CVD
4楼2015-07-10 21:16:21
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yangyueyf

银虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by bengau at 2015-07-10 06:02:42
用砂纸打磨一下靶的表面试试？

大侠能不能简单解释一下
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PVD ALD CVD
5楼2015-07-10 21:17:54
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bengau

木虫 (正式写手)
以前做过，大概是金属靶表面不均匀，会导致等离子放电区不稳定？也许跟尖端放电类似
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6楼2015-07-11 05:56:33
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bengau

木虫 (正式写手)
不均匀可能是表面因为溅射不均导致表面粗糙，也可能是表面氧化不均匀
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7楼2015-07-11 06:02:02
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xsz2013

铜虫 (小有名气)
我也遇到类似情况，不过不是你说的这种金属，不稳定的时候会发现辉光也不稳定。
建议继续提高工作电流电压，待示数稳定后，会发现辉光也稳定了，再缓慢把示数降下来试试
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8楼2015-07-12 22:02:50
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kakarote

金虫 (文坛精英)
可能是腔室内或者靶面有很多不光滑突起，会导致局部放电。另外，设备本身耦合的不好也会出现这样的问题。如果原来是稳定的，现在不稳定了，就要检查一下到底哪里更换了什么，随便改变一点位置或者电介质都会影响设备耦合。不知道你的设备是不是和我们的设备一样，大概是这样子的。
发现你除了CU分峰有疑问，设备运行也有问题。
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9楼2015-07-12 23:56:40
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