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yangyueyf

银虫 (正式写手)

[求助] 射频磁控溅射金属Mo,反射功率不稳定,往复跳动 已有1人参与

射频磁控溅射金属Mo,反射功率不稳定,往复跳动,工作电流也同步往复跳动,电压基本稳定,肿么回事呢
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PVD ALD CVD
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bengau

木虫 (正式写手)

以前做过,大概是金属靶表面不均匀,会导致等离子放电区不稳定?也许跟尖端放电类似
6楼2015-07-11 05:56:33
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bengau

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
yangyueyf: 金币+30, ★★★很有帮助 2015-07-10 21:14:28
用砂纸打磨一下靶的表面试试?
2楼2015-07-10 06:02:42
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yangyueyf

银虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by bengau at 2015-07-10 06:02:42
用砂纸打磨一下靶的表面试试?

我觉得你说的很有道理
PVD ALD CVD
3楼2015-07-10 21:15:12
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yangyueyf

银虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by bengau at 2015-07-10 06:02:42
用砂纸打磨一下靶的表面试试?

但又不知道是什么道理
PVD ALD CVD
4楼2015-07-10 21:16:21
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