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射频磁控溅射的金属Mo与玻璃片结合力特别差已有4人参与
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采用射频磁控溅射的方式溅射金属Mo在玻璃片上，本地真空度6×10-4Pa，基底温度100℃，高纯氩气，50SCCM，溅射气压0.45Pa，功率90W，时间100min，溅射完成后发现大部分Mo和玻璃基底的结合力特别差，使劲儿一吹就掉，小部分的结合力很好，如下图所示，各位大侠请受小女子一拜  IMG20150702193415.jpg |
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 薄膜制备与特性 |
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3楼2015-07-02 22:24:10
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4楼2015-07-03 09:09:42
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6楼2015-07-03 16:35:57
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