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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 射频磁控溅射的金属Mo与玻璃片结合力特别差
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wanghuaxing

禁虫 (小有名气)
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11楼2015-07-06 21:39:15
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lisx2525

新虫 (初入文坛)
1） 做个SiO2 打底层，  2）  Mo 分两层溅射， 先溅射种子层 ，然后在溅射Mo 层。 两种Mo 的气压有点区别。
使用直流溅射即可。射频溅射太慢。
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12楼2015-07-20 15:03:33
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cdjjianjian

新虫 (初入文坛)
加缓冲层，

[ 发自小木虫客户端 ]
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13楼2015-07-20 15:56:38
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Canba3000

金虫 (正式写手)
减小气流试试
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14楼2015-08-20 08:11:33
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cord

铁杆木虫 (著名写手)
真空度太低了，做的过程中氧化了。
可以直接买。
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15楼2015-08-20 10:28:13
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325114100

新虫 (小有名气)
工作压力要提高些，你这个压力忒小了，至少提高到1Pa以上
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16楼2015-09-19 16:16:54
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马亚辉

木虫 (小有名气)
Mo是金属，直流就可以啦，不用射频；Mo做不上去有可能是玻璃片不干净，玻璃片洗不干净怎么做都是白搭，洗干净的话就用两步法，先做一层结合力强的，做完后再按照你所设计的去溅射就解决啦
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17楼2015-09-20 09:06:08
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