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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 射频磁控溅射的金属Mo与玻璃片结合力特别差
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yangyueyf

银虫 (正式写手)

[求助] 射频磁控溅射的金属Mo与玻璃片结合力特别差 已有4人参与

采用射频磁控溅射的方式溅射金属Mo在玻璃片上，本地真空度6×10-4Pa，基底温度100℃，高纯氩气，50SCCM，溅射气压0.45Pa，功率90W，时间100min，溅射完成后发现大部分Mo和玻璃基底的结合力特别差，使劲儿一吹就掉，小部分的结合力很好，如下图所示，各位大侠请受小女子一拜

射频磁控溅射的金属Mo与玻璃片结合力特别差
IMG20150702193415.jpg
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PVD ALD CVD
1楼 2015-07-02 21:09:04
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郭大营

新虫 (正式写手)

春愈厅的主人
同求呢！我也遇到相似的情况呢！
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3楼2015-07-02 22:24:10
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yangyueyf

银虫 (正式写手)
这到底是为什么呢
赞一下 回复此楼
PVD ALD CVD
2楼2015-07-02 21:10:55
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avad

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
热膨胀系数差别太大，加梯度金属中间层
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不如归去
4楼2015-07-03 09:09:42
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xsz2013

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
yangyueyf: 金币+10 2015-07-12 16:49:45
Mo本身导电性还可以，为什么不用直流溅射呢？另外可以加基底偏压试试
赞一下(1人) 回复此楼
5楼2015-07-03 15:24:10
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