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yangyueyf

银虫 (正式写手)

[求助] 射频磁控溅射金属Mo,反射功率不稳定,往复跳动 已有1人参与

射频磁控溅射金属Mo,反射功率不稳定,往复跳动,工作电流也同步往复跳动,电压基本稳定,肿么回事呢
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PVD ALD CVD
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kakarote

金虫 (文坛精英)

可能是腔室内或者靶面有很多不光滑突起,会导致局部放电。另外,设备本身耦合的不好也会出现这样的问题。如果原来是稳定的,现在不稳定了,就要检查一下到底哪里更换了什么,随便改变一点位置或者电介质都会影响设备耦合。不知道你的设备是不是和我们的设备一样,大概是这样子的。
发现你除了CU分峰有疑问,设备运行也有问题。
9楼2015-07-12 23:56:40
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bengau

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
yangyueyf: 金币+30, ★★★很有帮助 2015-07-10 21:14:28
用砂纸打磨一下靶的表面试试?
2楼2015-07-10 06:02:42
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yangyueyf

银虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by bengau at 2015-07-10 06:02:42
用砂纸打磨一下靶的表面试试?

我觉得你说的很有道理
PVD ALD CVD
3楼2015-07-10 21:15:12
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yangyueyf

银虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by bengau at 2015-07-10 06:02:42
用砂纸打磨一下靶的表面试试?

但又不知道是什么道理
PVD ALD CVD
4楼2015-07-10 21:16:21
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