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磁控溅射Cr发现靶材一直在掉渣,怎么回事?
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xiaola507
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磁控溅射Cr发现靶材一直在掉渣,怎么回事?
已有1人参与
各位大虾,如题,磁控溅射制备铬Cr电极,发现每次溅射完挡板可以看到靶材掉的渣,溅射的功率是50W,靶材直径100mm,气压0.4Pa,流量15SCCM,靶基距100mm,请问这是怎么回事呢?
8360985316362201641.jpg
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做科研其实是为了研究自己。
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2015-06-19 15:20:29
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是射频的
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做科研其实是为了研究自己。
2楼
2015-06-19 15:22:14
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估计靶材不好,需要具体细节支持去分析问题
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3楼
2015-06-19 16:11:20
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icwafer
at 2015-06-19 16:11:20
估计靶材不好,需要具体细节支持去分析问题
用之前的设备做没问题,靶材换到新买的一台设备上就开始掉渣了
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4楼
2015-06-19 16:58:33
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xiaola507
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用之前的设备做没问题,靶材换到新买的一台设备上就开始掉渣了...
难道是设备磁场问题
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5楼
2015-06-19 18:52:11
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at 2015-06-19 18:52:11
难道是设备磁场问题
...
这个怎么讲,那减小功率是不是最好的方式?
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6楼
2015-06-22 10:53:06
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商家已经主动声明此回帖可能含有宣传内容
可能靶材不够致密?可以试试我们的靶材,都是钢研也的设备做的,我们Cr靶纯度3N5,HIP工艺
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7楼
2015-07-07 09:43:50
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用之前的设备做没问题,靶材换到新买的一台设备上就开始掉渣了...
如果实验条件没变的话就应该是机器的问题了,功率什么的还可以的啊
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8楼
2015-07-08 16:45:55
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