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xiaola507

金虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射Cr发现靶材一直在掉渣,怎么回事?已有1人参与

各位大虾,如题,磁控溅射制备铬Cr电极,发现每次溅射完挡板可以看到靶材掉的渣,溅射的功率是50W,靶材直径100mm,气压0.4Pa,流量15SCCM,靶基距100mm,请问这是怎么回事呢?

磁控溅射Cr发现靶材一直在掉渣,怎么回事?
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做科研其实是为了研究自己。
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szz-bj

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by xiaola507 at 2015-06-19 16:58:33
用之前的设备做没问题,靶材换到新买的一台设备上就开始掉渣了...

如果实验条件没变的话就应该是机器的问题了,功率什么的还可以的啊
8楼2015-07-08 16:45:55
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icwafer

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
估计靶材不好,需要具体细节支持去分析问题

[ 发自小木虫客户端 ]
为人民币服务!
3楼2015-06-19 16:11:20
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xiaola507

金虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by icwafer at 2015-06-19 16:11:20
估计靶材不好,需要具体细节支持去分析问题

用之前的设备做没问题,靶材换到新买的一台设备上就开始掉渣了
做科研其实是为了研究自己。
4楼2015-06-19 16:58:33
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icwafer

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
4楼: Originally posted by xiaola507 at 2015-06-19 16:58:33
用之前的设备做没问题,靶材换到新买的一台设备上就开始掉渣了...

难道是设备磁场问题

[ 发自小木虫客户端 ]
为人民币服务!
5楼2015-06-19 18:52:11
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