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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 如何用磁控溅射技术制备高红外反射率的钨薄膜和钼薄膜？
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gaoxh121

木虫 (正式写手)

[求助] 如何用磁控溅射技术制备高红外反射率的钨薄膜和钼薄膜？ 已有1人参与

最近做磁控实验，在不锈钢表面制备单层钨或者单层钼，看了很多文献，利用直流溅射制备了高红外反射率的单层钨或者钼薄膜！但自己用直流溅射制备时，得到的单层钨或者钼
的红外反射谱图与文献报道有很大区别！实验参数如功率，溅射时间都做了调整，始终没得到高红外反射率的单层钨或者钼薄膜？不知道哪里出问题了，请前辈们指点，谢谢！
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1楼 2015-03-03 17:10:02
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325114100

新虫 (小有名气)
你这里指的单层钨、钼是什么意思、?
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2楼2015-09-19 16:04:50
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马亚辉

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

单层是多厚？会不会靶材一起辉就够啦，太薄的话怎么去控制膜的质量
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3楼2015-09-20 09:00:36
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