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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 磁控溅射过程中加热电流不稳定
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naso123

银虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射过程中加热电流不稳定 已有3人参与

本人用磁控溅射的方法生长的压电薄膜，在生长过程中发现辉光打到基片上时，加热电流出现波动，辉光也是一闪一闪的，有人知道这是什么原因吗？

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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1楼 2014-11-03 11:36:48
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150465250

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

辉光怎么会打到基片上？是反溅射清洁基片表面吗？那就不用管它
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5楼2014-11-03 19:20:24
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naso123

银虫 (小有名气)
用的仪器是沈科仪的

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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2楼2014-11-03 11:42:56
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苹果屋

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by naso123 at 2014-11-03 11:42:56
用的仪器是沈科仪的

你的溅射气压是多少啊？溅射时气压稳定吗
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3楼2014-11-03 17:33:17
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150465250

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
（1）表面有氧化物，导电性时好时坏，加大电流多溅射一会儿。（2）电流太小，未进入稳定出辉状态，调大电流试一下。（3）靶材固定螺丝太松，紧一下。（4）长时间未清理，靶罩内侧和靶材固定圈上出现刺状或片状残留物，用砂纸细细打磨。（5）腔体烘烤不足，靶材上有水附着，内外烘烤24小时，使真空进入10的-4次方以下。（6）电流调节电位器磨损，电阻值不稳定，轻轻晃一下旋钮，如果电流有摆动，则需更换。（6）靶材中有铝，只能把靶材消耗掉一些了。
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4楼2014-11-03 19:16:49
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