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磁控溅射过程中加热电流不稳定
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naso123
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磁控溅射过程中加热电流不稳定
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本人用磁控溅射的方法生长的压电薄膜,在生长过程中发现辉光打到基片上时,加热电流出现波动,辉光也是一闪一闪的,有人知道这是什么原因吗?
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2014-11-03 11:36:48
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用的仪器是沈科仪的
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2楼
:
Originally posted by
naso123
at 2014-11-03 11:42:56
用的仪器是沈科仪的
你的溅射气压是多少啊?溅射时气压稳定吗
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3楼
2014-11-03 17:33:17
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(1)表面有氧化物,导电性时好时坏,加大电流多溅射一会儿。(2)电流太小,未进入稳定出辉状态,调大电流试一下。(3)靶材固定螺丝太松,紧一下。(4)长时间未清理,靶罩内侧和靶材固定圈上出现刺状或片状残留物,用砂纸细细打磨。(5)腔体烘烤不足,靶材上有水附着,内外烘烤24小时,使真空进入10的-4次方以下。(6)电流调节电位器磨损,电阻值不稳定,轻轻晃一下旋钮,如果电流有摆动,则需更换。(6)靶材中有铝,只能把靶材消耗掉一些了。
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4楼
2014-11-03 19:16:49
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辉光怎么会打到基片上?是反溅射清洁基片表面吗?那就不用管它
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5楼
2014-11-03 19:20:24
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3楼
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Originally posted by
苹果屋
at 2014-11-03 17:33:17
你的溅射气压是多少啊?溅射时气压稳定吗...
气压0.5Pa左右,气压在0.5~0.55Pa之间跳动
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6楼
2014-11-04 11:20:27
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你的加热电流会变化明显,应该会有局部电弧放电,估计是该清理了。检查靶表面是否氧化,清理靶周围和腔体,然后抽一下极限真空,最好到10的-5次方。辉光不稳定,一般是电流达不到,建议你调大电流试试。若是样品在旋转过程中出现的变化,则必须检查你装样是否在正中。
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踏实科研
7楼
2014-11-05 09:04:07
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磁控溅射靶材基底和托盘分别是两个电极,两者之间的辉光气体就相当于介质,好比是电容器,介质的密度等不稳定时,必会引起两电极上电压的不稳定
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8楼
2014-11-06 08:06:02
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