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磁控溅射设备出现问题
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磁控溅射设备出现问题
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最近我们实验室磁控溅射仪出现问题:机械泵和分子泵可以抽到理想的真空度,但是溅射几分钟之后,真空度突然升高,无法工作。各路大神给予指点呀!这是什么原因呀
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拥抱理想
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2014-10-31 20:29:31
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Friend007
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1.靶材不纯。2.真空室污染严重。3.充气系统异常。
[ 发自小木虫客户端 ]
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2楼
2014-10-31 22:31:08
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不溅射之后是否真空又正常?
用的是什么气体溅射,纯度?靶材是什么?
你的信息太少了。
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2014-10-31 23:25:27
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hnyhg
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专业: 半导体材料
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如果真空度升高的不多,可能和靶材有关,换个靶材试试,如果真空度升的比较多,可能是气路阀门或接口漏了,希望对你有帮助
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4楼
2014-11-01 09:18:39
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Originally posted by
Friend007
at 2014-10-31 22:31:08
1.靶材不纯。2.真空室污染严重。3.充气系统异常。
谢谢你的回答,可是一般真空是污染严重,要抽到理想的真空度是不可能的,至于靶材,我们实验室以前就是使用的同种靶材没有出现过这样的问题!
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拥抱理想
5楼
2014-11-01 10:05:06
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tang2014
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专业: 半导体晶体与薄膜材料
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1.你气瓶给的压强是多少,有的时候减压阀给出的压强高于3个大气压,会让冲破流量计的控制。2.不溅射只是通气看看是否是外加气路或者流量计的问题3。会不会你把闸板阀关了
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6楼
2014-11-03 16:09:48
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wangshaobin
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这种情况一般是漏气,靶座、转架、靶漏、进气管有漏点等。规管还个新的试试。
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7楼
2014-11-10 14:23:50
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