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ponieer金虫 (著名写手)
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激光干涉光刻应该选取什么样的光刻胶 已有2人参与
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光源是325nm的He-Cd激光器，功率是50mw。 希望涂胶厚度范围可以控制在100nm-1000nm之间。所刻的光栅周期在300纳米到1微米之间。显影的深度最好能比较方便控制。 可能会用到lift-off工艺来制作金属光栅。 大家给推荐下啊 |
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2楼2014-09-19 12:11:46
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dgf2008: 屏蔽内容, 过期内容！ 2017-07-25 23:37:59
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3楼2014-09-19 12:36:11
ponieer
金虫 (著名写手)
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5楼2014-09-19 19:52:28
exciting73 
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7楼2014-09-23 12:15:45
diaokaidi
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