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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 激光干涉光刻应该选取什么样的光刻胶
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ponieer

金虫 (著名写手)

[求助] 激光干涉光刻应该选取什么样的光刻胶 已有2人参与

光源是325nm的He-Cd激光器，功率是50mw。
希望涂胶厚度范围可以控制在100nm-1000nm之间。所刻的光栅周期在300纳米到1微米之间。显影的深度最好能比较方便控制。
可能会用到lift-off工艺来制作金属光栅。

大家给推荐下啊
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1楼 2014-09-19 11:02:56
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ponieer

金虫 (著名写手)
2楼2014-09-19 12:11:46
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
ponieer: 金币+3, ★★★很有帮助 2014-09-19 19:23:04
dgf2008: 屏蔽内容, 过期内容！ 2017-07-25 23:37:59
本帖内容被屏蔽
3楼2014-09-19 12:36:11
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ponieer

金虫 (著名写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by yswyx at 2014-09-19 12:36:11
325nm的光源，距离365nm的i线较近，可以选择i线胶做。
对于你想要的厚度范围，推荐用Ultra i 系列的光刻胶，基本上是i线领域分辨率最高的光刻胶了。
如果用负胶的话，SU8中的1030可以考虑，只是去胶麻烦。
如果是 ...

那综合我的要求，到底哪种比较好啊
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4楼2014-09-19 19:25:18
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ponieer

金虫 (著名写手)
5楼2014-09-19 19:52:28
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

商家已经主动声明此回帖可能含有宣传内容
感谢参与，应助指数 +1
引用回帖:
4楼: Originally posted by ponieer at 2014-09-19 19:25:18
那综合我的要求，到底哪种比较好啊...

可以选择ma-P1205或ma-N1405，如果有lift-off工艺建议ma-N1405。如有需要请站内联系。
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6楼2014-09-20 14:57:04
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ponieer

金虫 (著名写手)
7楼2014-09-23 12:15:45
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diaokaidi

木虫 (正式写手)
求教，老板要我搭一个激光干涉平台，我刚接触一头雾水。能不能传授点经验，激光器选择（脉冲or连续），激光能量，相干长度要求等方面，多谢！
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8楼2015-06-16 10:08:30
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