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huanghuolin

木虫 (小有名气)

[求助] 光刻胶S1813的显影液 已有1人参与

请问各位用过光刻胶S1813的虫友,S1813正常是用MF-26A显影液吗?如果没有这种显影液的话是不是可以用NaOH溶液自己稀释使用,多少浓度的NaOH,和水多少的配比,然后效果如何,如果图形的最小线条是2um的话?
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飞鸽
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rooinlee

木虫 (正式写手)

天一阁主

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
huanghuolin: 金币+1, 有帮助, 谢谢 2013-07-26 10:17:39
用过你说的光刻胶和显影液,不过买来的显影液是直接配好的,无需自己稀释。
你要是不清楚配方的话,可以试着做做,摸索参数啊
自己摸索一下显影时间

2um算是比较小的线宽了,我当时做的10um

祝你顺利
2楼2013-07-26 08:57:14
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huanghuolin

木虫 (小有名气)

有没有懂的虫友啊,请不吝赐教啊!
飞鸽
3楼2013-07-26 10:18:54
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
huanghuolin: 金币+3, ★★★很有帮助 2013-07-27 15:50:53
TMAH 2.38%的溶液。
也可以买现成的正胶显影液。配比都差不多。
最好不要自己配,因为你能买到的化学试剂大部分都是不洁净的,颗粒和离子沾污很严重。
NOH不要用,如果做的是电学相关的器件,Na+对于硅器件,是很致命的离子沾污。这是学半导体的常识。
可以联系“静静一yi”买你需要的东西。
4楼2013-07-26 12:28:22
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huanghuolin

木虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by yswyx at 2013-07-26 12:28:22
TMAH 2.38%的溶液。
也可以买现成的正胶显影液。配比都差不多。
最好不要自己配,因为你能买到的化学试剂大部分都是不洁净的,颗粒和离子沾污很严重。
NOH不要用,如果做的是电学相关的器件,Na+对于硅器件,是 ...

请问大侠如果TMAH也没有呢?只有ammonium hydroxide不知道能不能近似替代使用?我要做GaN的器件,发现实验室只有KOH和ammonium hydroxide可以用,现在问题是时间特别急,一个月之内就要完成这些光刻工作,如果用KOH 能做吗,我知道有离子沾污,但是不知道影响到底有多大?
飞鸽
5楼2013-07-27 15:55:26
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

★ ★
huanghuolin: 金币+2, ★★★很有帮助 2013-07-29 09:11:16
引用回帖:
5楼: Originally posted by huanghuolin at 2013-07-27 15:55:26
请问大侠如果TMAH也没有呢?只有ammonium hydroxide不知道能不能近似替代使用?我要做GaN的器件,发现实验室只有KOH和ammonium hydroxide可以用,现在问题是时间特别急,一个月之内就要完成这些光刻工作,如果用KO ...

如果你们实验室都是做三五族的,轻金属离子沾污倒是不怕。
但是你的KOH和氨水是MOS级以上的吗?如果不是的话,还是不用为妙。
显影液买起来很方便的,现在有很多快递能寄液体的。
6楼2013-07-27 23:46:33
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kikumaru

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
huanghuolin: 金币+14, ★★★很有帮助 2014-03-08 18:54:19
我试过可以用KOH自己配,效果也很好,大概1%就够了,具体工艺要调试一下!
且行且分析
7楼2014-03-08 18:45:36
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1009300574

金虫 (小有名气)

你好,请问你的两微米是怎么实现的啊?我想想做线宽两微米的矩形网格,期待你的回复。。。。。。
做最好的自己!
8楼2014-12-26 17:31:16
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huanghuolin

木虫 (小有名气)

引用回帖:
8楼: Originally posted by 1009300574 at 2014-12-26 17:31:16
你好,请问你的两微米是怎么实现的啊?我想想做线宽两微米的矩形网格,期待你的回复。。。。。。

普通的光刻就可以啊,注意曝光和显影都要控制好,还有胶甩的薄一点
飞鸽
9楼2014-12-26 23:16:53
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