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wj0702114081金虫 (正式写手)
学神的奴隶
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硅刻蚀设备求推荐 已有6人参与
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最近在调研一些硅刻蚀的设备。但是对这方面不是很了解。 说一下我们的目的。 我们主要是想在氧化片上做二氧化硅的微结构，然后对衬底硅进行刻蚀形成二氧化硅的支撑。 也就是说，我们想刻蚀硅，但是又不想刻蚀表面的二氧化硅微结构。 实验室自己用。 老板让我调研一下ICP的相关设备。 不是很了解，求推荐一下。 看了目前几个设备。 1、Oxford PlasmaPro 100 2、sentech ICP-RIE SI 500 3、微电子所的 ICP-8A 4、还有个日本的 Samco 牌的，没查明白哪种型号能用。 还有在小木虫搜到的帖子。http://muchong.com/html/201304/5774852.html 里面提到 北方微电子 GSE 200系列 ICP 北京东方中科集成科技股份有限公司 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统SI500（SENTECH） 北京创世威纳科技 ICP-8100 型感应耦合等离子刻蚀设备 |
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yswyx 
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wj0702114081
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