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wj0702114081

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[交流] 硅刻蚀设备求推荐已有6人参与

最近在调研一些硅刻蚀的设备。但是对这方面不是很了解。
说一下我们的目的。
我们主要是想在氧化片上做二氧化硅的微结构，然后对衬底硅进行刻蚀形成二氧化硅的支撑。
也就是说，我们想刻蚀硅，但是又不想刻蚀表面的二氧化硅微结构。
实验室自己用。

老板让我调研一下ICP的相关设备。
不是很了解，求推荐一下。

看了目前几个设备。
1、Oxford  PlasmaPro 100
2、sentech ICP-RIE SI 500
3、微电子所的 ICP-8A
4、还有个日本的 Samco 牌的，没查明白哪种型号能用。
还有在小木虫搜到的帖子。http://muchong.com/html/201304/5774852.html
里面提到
北方微电子  GSE 200系列 ICP
北京东方中科集成科技股份有限公司  电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统SI500（SENTECH）
北京创世威纳科技 ICP-8100 型感应耦合等离子刻蚀设备

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1楼2014-09-16 17:33:49

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yswyx

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wj0702114081: 金币+2 2014-09-16 21:55:58

ICP的话，能刻的比较深。
如果要买进口的，肯定是买STPS，没别的选择，你上面列出来的那几家都不划算，工艺烂，设备也差。代理是香港镭射。
如果要买国产的，毫无疑问选微电子所。北方微的太贵，创世公司太烂，没保证。

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2楼2014-09-16 21:26:16

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引用回帖:

2楼: Originally posted by yswyx at 2014-09-16 21:26:16
ICP的话，能刻的比较深。
如果要买进口的，肯定是买STPS，没别的选择，你上面列出来的那几家都不划算，工艺烂，设备也差。代理是香港镭射。
如果要买国产的，毫无疑问选微电子所。北方微的太贵，创世公司太烂， ...

SPTS的可能实在贵。。。
之前问过他家的二氟化氙刻蚀设备，100万左右。
ICP估计更贵了。
我联系一下问问吧。
谢谢。

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3楼2014-09-16 21:39:26

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