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急急急!!磁控溅射镀膜 试样边上镀不上膜 这跟什么有关系啊?
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云海笑漾
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[交流]
急急急!!磁控溅射镀膜 试样边上镀不上膜 这跟什么有关系啊?
各位大神
磁控溅射在硬质合金表面镀膜 试样是长方形片 为什么试样中间能镀上膜 但是边界上镀不上去膜?
这跟哪个参数有关呢 有经验的大家交流一下 谢谢喽\(^o^)/~
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2014-03-05 23:40:16
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
这得看你靶材和基体的相对位置与距离啦!磁控溅射的等离子体区域是有限的,所以应适当控制二者的距离,最好基体能放置在转架上,这样会均匀点;条件可以的话,同时开几个相同靶。
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10楼
2014-03-13 21:16:08
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wu2140
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云海笑漾(金币+1): 谢谢参与
试一试减小靶基距,增大溅射气压。
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2014-03-06 00:01:27
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云海笑漾(金币+1): 谢谢参与
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2楼
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Originally posted by
wu2140
at 2014-03-06 00:01:27
试一试减小靶基距,增大溅射气压。
减小距离 那所渡膜的面积会更小吧
[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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5楼
2014-03-07 15:54:41
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wu2140
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maya5428
at 2014-03-07 15:54:41
减小距离 那所渡膜的面积会更小吧
...
减小靶基距是为了提高均匀性,如果衬底面积不是太大的话。
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6楼
2014-03-07 22:00:39
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云海笑漾
8楼
2014-03-12 21:23
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6楼
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wu2140
at 2014-03-07 22:00:39 减小靶基距是为了提高均匀性,如果衬底面积不是太大的话。 ...
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