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cheadache捐助贵宾 (初入文坛)
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求教一个磁控溅射的问题 相同的靶材溅射出的膜质量却不一样！ 已有1人参与
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一直用磁控溅射在石英玻璃上镀铬-金膜做为导电层，一般功率为200w ，工作电流430MA,电压450v。 在老金靶用完之后，我更换一个了金靶，功率不变，工作电流变为410MA,电压480v，其它参数没任何变化，但是膜层的质量严重下降，镀膜后石英器件的振动品质因数也下降的很明显。 我只更换了金靶，没更改任何参数设置，为何造成这么大的变化啊。 金靶应该是没有问题的，之前用别的磁控溅射设备镀膜没有任何问题。 [ Last edited by cheadache on 2013-6-28 at 19:05 ] |
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 真空镀膜类技术资料 |
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5楼2013-06-29 15:52:47
mzhuxust
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3楼2013-06-29 08:22:30
4楼2013-06-29 15:51:35
