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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 非晶合金 » 磁控溅射镀不上去膜！！
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cstt2007

银虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射镀不上去膜！！

本人用的是沈科仪的JGP450磁控溅射设备。直流溅射，起辉正常，气压在1pa左右，时间0.5h，氩气流量30sccm。镀的是ZrCu合金靶。靶材每次都用角磨机处理表面。靶基距大概在9cm。做SEM，基本上很少一点才会镀上去！另外求教哪个是阳极？是基片还是靶罩。

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[ Last edited by cstt2007 on 2013-4-9 at 17:41 ]
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1楼2013-04-09 17:34:58
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lr888hg

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
cstt2007: 金币+5, ★有帮助, 我试试吧 2013-04-12 15:51:30
首先验证不是靶材及磁场的问题，可随炉一块不锈钢片，镀上薄膜后膜层应该有颜色；
    其次，Si基片确定清洗干净，由于不导电加不上偏压导致薄膜附着力差，而且由于工艺加热的话可能因基片与薄膜热应力过大而崩膜；
    另外关于电位，靶材和基片都是负极，靶屏蔽罩为正极（与腔体一起接地，为0电位），产生的Ar+分别轰击靶材和基片，前者能量大溅射靶材，后者能量小起夯实薄膜增加附着力的作用。
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8楼2013-04-11 22:01:22
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majoy223

禁虫 (小有名气)
感谢参与，应助指数 +1
本帖内容被屏蔽
3楼2013-04-09 21:02:59
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cstt2007

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by summerbs at 2013-04-09 19:58:58
你用的什么衬底?

单质Si！
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4楼2013-04-10 11:50:02
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cstt2007

银虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by majoy223 at 2013-04-09 21:02:59
镀层脆性大，换种材料试试

请问是不是起辉了也不一定会镀上去吗
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5楼2013-04-10 11:50:47
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