24小时热门版块排行榜    

查看: 2428  |  回复: 17
当前只显示满足指定条件的回帖,点击这里查看本话题的所有回帖

nmliuhai

铜虫 (小有名气)

[求助] 直流脉冲磁控溅射镀硅膜阳极掉渣严重 已有1人参与

各位虫友,我最近用脉冲直流磁控溅射在玻璃基片上镀硅膜。靶悬挂在真空室上方,基片放在靶正下方。实验中, 本底真空为2*10^4 pa,Ar:1000 sccm, 功率为7kw,最后硅膜的厚度为20微米。不知为什么在镀的过程中,靶阳极上镀上的硅会发生脱落,落在基片上,在硅膜上产生了很多的坑。大家以前做的时候遇到过这种情况吗?怎么才能有效的避免阳极上镀上的硅不发生脱落?谢谢大家帮忙
回复此楼

» 猜你喜欢

» 本主题相关价值贴推荐,对您同样有帮助:

已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

nmliuhai

铜虫 (小有名气)

镀膜机采用的是靶在真空室上方,基片置于靶下方。靶是矩形平面靶,靶面是向下的。我查了查大概是说 ‘平面靶较易形成的再沉积区,这些被污染的靶面,极易产生掉渣然后落到玻璃基板上。同样这些地方很容易产生打弧,打弧又造成了更多掉渣和大颗粒的形成。’  感觉我们在镀膜的时候,沉积在阳极上的硅及靶面的再沉积区都会引起掉渣,不知道有没有什么办法可以减少这种掉渣。

镀膜示意图.jpg



条形靶.jpg

4楼2012-12-29 21:24:58
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

nmliuhai

铜虫 (小有名气)

谢谢大家的讨论,回头我们试试把电源的频率加大点试试。现在频率是80 kHz。因为我们以后要往很大的件上镀Si,所以件只能是放在下边。如上图的靶图,在镀膜机中靶面是向下的,图中靶的压框的下边还有阳极框,阳极里边通的是冷却水。所以在镀膜的过程中,阳极上沉积的si可能会因为和金属的热膨胀系数不一样发生崩裂,掉到基片上。
9楼2012-12-30 17:17:13
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

nmliuhai

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
6楼: Originally posted by wukong6170 at 2012-12-30 12:19:54
我想可能是靶太热了,会不会是散热系统有什么问题呢

现在就是溅射的阳极框上的Si发生脱落,应该是和阳极的散热有关的。
10楼2012-12-30 17:19:05
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

nmliuhai

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by wangyong832 at 2012-12-30 03:31:20
不知道改变(提高)脉冲频率是否有用?

谢谢,现在频率是80KHz,到时我们试试看看。
11楼2012-12-30 17:19:39
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

nmliuhai

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
7楼: Originally posted by yswyx at 2012-12-30 13:01:51
镀20um厚!!!溅射!~
这要花多少钱?干嘛不用键合的方法,把硅片和玻璃键合在一起,然后再减薄。只是这样硅是单晶的,不知道是否合适你用。

这个应该不行,主要以后要往大的件上镀
12楼2012-12-30 17:20:35
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

nmliuhai

铜虫 (小有名气)

我上网查了查,发现有人在玻璃镀膜中遇到了同样的问题。
13楼2012-12-30 17:21:53
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

nmliuhai

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
14楼: Originally posted by yswyx at 2012-12-31 15:49:24
那只能考虑换设备了,你那个设备不适合镀厚膜。
你的片子最后希望多大?...

估计到时镀一两米的吧,最近感觉是靶面上往下掉东西,你以前遇到过吗?有没有什么办法解决一下?
15楼2013-01-09 23:20:03
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
相关版块跳转 我要订阅楼主 nmliuhai 的主题更新
信息提示
请填处理意见