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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 【求助】磁控溅射和电子束蒸发两种方式来镀制金属铬膜，哪种的附着力好一些呢？
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treeherd

禁虫 (小有名气)
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1楼 2010-11-19 08:06:37
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king07

银虫 (初入文坛)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
wandaohzl:鼓励交流 2010-11-19 09:19:59
我用的是热蒸发，各有优点缺点。附着利好点的应该是溅射。
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2楼2010-11-19 09:02:46
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wudong863

金虫 (小有名气)

Coatingtech
肯定是溅射
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材料分析测试技术群：101717240。
3楼2010-11-19 10:07:15
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treeherd

禁虫 (小有名气)
zhangwj:附着力和出来的离子能量大小有关。 2010-11-19 10:49:20
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4楼2010-11-19 10:17:26
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damuchongzi

铁杆木虫 (小有名气)
★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
yunruirui(金币+1):谢谢参与 2010-11-19 19:53:48
个人经验是电子束蒸发好一些，可能原因之一：真空度要高很多，这样基片表面脱附效果要好很多！
赞一下(2人) 回复此楼
5楼2010-11-19 19:53:25
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wangll457

禁虫 (初入文坛)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
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6楼2012-02-06 15:07:30
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