| 查看: 2020 | 回复: 8 | |||
[求助]
电子束蒸发生长10nm的Ti 膜
|
| 如题，请问用电子束蒸发可以生长出10nm的Ti 膜吗？可以成连续膜否？以前有人长过吗？怎么测量厚度呢？ |
回复此楼» 猜你喜欢
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有83人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
电子束蒸发硅用什么坩埚啊？
已经有11人回复- 电子束热蒸发问题
已经有3人回复
- 电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？
已经有17人回复
- 【求助】磁控溅射和电子束蒸发两种方式来镀制金属铬膜，哪种的附着力好一些呢？
已经有5人回复
- 【交流】电子束与物质作用过程分析
已经有4人回复
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.1
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
2楼2012-11-20 17:27:39
Jackcd12
至尊木虫 (知名作家)
- MN-EPI: 1
- 应助: 2150 (讲师)
- 金币: 13244.9
- 红花: 366
- 帖子: 7523
- 在线: 2164.1小时
- 虫号: 1865159
- 注册: 2012-06-20
- 性别: GG
- 专业: 电化学
3楼2012-11-20 20:31:50
4楼2012-11-21 15:02:02
【答案】应助回帖
感谢参与，应助指数 +1
| 电子束蒸发设备可以实现，但是要做10nm的厚度并保证均匀性和重复性也不容易，需要你的设备配置有高精度膜厚控制仪（晶控），并且与电子枪功率及挡板的联动控制要匹配得当，包括对蒸发速率的控制，另外如果样品尺寸较大，那么蒸发距离（靶基距）也要调整得当，必要时候还需要加装修正挡板，这都是需要实验积累的数据，每台镀膜设备的使用工况都不会完全相同，需要在使用中不断积累数据，然后修正，才能做出高质量的样品。http://www.kurtvac.com/ |
5楼2012-11-21 15:50:52
6楼2012-11-29 11:32:07
7楼2012-11-29 13:00:05
8楼2012-12-11 09:25:48
9楼2014-06-30 09:49:00